Axcelis는 반도체 제조 산업을 위한 첨단 이온 주입 장비를 설계, 제조 및 서비스하는 미국의 선도 기업입니다. 1978년에 설립되어 매사추세츠주 비벌리에 본사를 두고 있으며, 전 세계 반도체 제조사들에게 고성능 이온 주입 솔루션을 제공합니다. 이 이온 주입 기술 분야의 선도 기업입니다. 독자적인 이온 주입 플랫폼을 통해 순도, 정밀도 및 생산성을 재정의하며, 고객들에게 경쟁 우위를 제공합니다.
포트폴리오
Axcelis의 주력 제품군은 Purion™ 플랫폼을 기반으로 한 이온 주입기 시리즈입니다. 이 플랫폼은 다양한 반도체 응용 분야의 요구를 충족하기 위해 설계되었습니다. 주요 제품 라인업은 다음과 같습니다.
1. 고전류 이온 주입기 (High Current Ion Implanter)
대량의 이온을 웨이퍼에 주입하여 반도체의 전기적 특성을 조절하는 데 사용됩니다. Purion H™ (Purion H5™ 및 Purion Dragon™) 시리즈가 해당됩니다.
2. 중에너지 이온 주입기 (Medium Energy Ion Implanter)
중간 범위의 에너지를 가진 이온을 주입하여 특정한 깊이와 농도로 도핑을 수행합니다.
Purion H200가 해당됩니다.
3. 고에너지 이온 주입기 (High Energy Ion Implanter): 높은 에너지의 이온을 깊은 층까지 주입하여 고성능 디바이스 제조에 활용됩니다.
Purion XE™ 시리즈가 여기에 해당됩니다. 특허 받은 Boost Technology™를 탑재하여 최첨단 이미지 센서 응용 분야에 적합한 Purion XEmax™ 모델을 포함합니다.
4. 중전류 이온 주입기 (Mid Current Ion Implanter): 중간 전류 범위의 이온 주입기로, 진화하는 이온 주입 요구 사항에 대응할 수 있게 유연한 공정 적용이 가능합니다.
Purion M™ 시리즈가 여기에 해당됩니다. 다양한 중전류 응용 분야를 커버할 수 있습니다.
이러한 제품들은 첨단 로직, 이미지 센서, 메모리(DRAM 및 NAND), 전력 디바이스 등 다양한 반도체 응용 분야에서 활용되고 있습니다.
특히, 최근 몇 년 전부터 SiC(실리콘카바이드) 전력반도체 시장이 크게 성장하고 있습니다. 기존 Si(실리콘) 웨이퍼와는 다르게, SiC 웨이퍼는 다른 이온 주입 (Ion Implantation) 공정이 필요하기 때문에 특히나 주목 받고 있습니다.
한국에서의 활동
Axcelis는 한국 시장의 중요성을 인식하고, 경기도 평택시에 Axcelis Asia Operations Center(AAOC)를 설립하였습니다. 이 첨단 제조 및 엔지니어링 시설은 약 4100m^2 규모의 클린룸을 갖추고 있으며, 한국뿐만 아니라 아시아 전역의 고객들에게 제품을 공급하고 있다고 합니다. 또한, 이 시설은 미국 제조 시설과 동일한 품질 및 효율성을 갖춘 첨단 제조 및 엔지니어링 시설이라고 합니다.
엑셀리스코리아 (Axcelis Korea)라는 현지 법인이 존재합니다. 여기서는 반도체 제조용 이온주입 장비의 생산, 판매, AS 및 기술 지원 등 전반적인 서비스를 제공합니다. 최근 수출 실적이 1억 달러를 돌파하며, 업계 및 정부로부터 “동탑산업훈장” 등 다양한 인정을 받기도 했습니다.
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