현대 산업에서 표면 분석 기술은 재료의 성질을 정확하게 이해하고 최적화하는 데 필수적인 역할을 합니다. 그중 XPS(X-ray Photoelectron Spectroscopy, 광전자분광법) 은 반도체를 비롯한 다양한 산업에서 표면 화학 조성과 결합 상태를 정밀하게 분석하는 기법으로 활용되고 있습니다. 이번 글에서는 XPS의 원리와 반도체뿐만 아니라 다양한 산업 분야에서의 응용 사례를 살펴보겠습니다.XPS의 원리XPS는 시료 표면에 X선을 조사하고, 방출된 광전자의 운동 에너지를 측정하여 원소의 화학 조성과 결합 상태를 분석하는 기법입니다.1. 광전효과와 결합 에너지XPS는 아인슈타인의 광전효과(Photoelectric Effect)를 기반으로 합니다. \[E_{B} = hν − (E_{K}+ϕ)\] \..